Tellurure de gallium(II)

Tellurure de gallium(II)
Image illustrative de l’article Tellurure de gallium(II)
__ Ga2+       __ Te2-
Maille cristalline du tellurure de gallium(II)
Identification
Nom UICPA tellanylidènegallium
Nom systématique tellurure de gallium(II)
No CAS 12024-14-5
No ECHA 100.031.524
No CE 234-690-1
PubChem 14496722
SMILES
InChI
Apparence solide inodore[1]
Propriétés chimiques
Formule GaTe
Masse molaire[2] 197,32 ± 0,03 g/mol
Ga 35,34 %, Te 64,67 %,
Propriétés physiques
T° fusion 824 °C[3]
Masse volumique 5,751 g/cm3[3]
Précautions
SGH[1]
SGH07 : Toxique, irritant, sensibilisant, narcotique
Attention
H302, H315, H319, H335, P280, P312, P301+P330+P331, P302+P352, P304+P340, P332+P313 et P337+P313
NFPA 704[1]

Symbole NFPA 704.

 

Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire.

Le tellurure de gallium(II) est un composé chimique de formule GaTe. C'est un semi-conducteur à gap direct[4] avec une largeur de bande interdite de 1,65 eV[5],[6]. Il se présente sous la forme de flocons noirs, mous, aux reflets gras et brillants, s'écrasant facilement.

On le connaît sous quatre structures cristallines, les deux polymorphes principaux étant l'α-GaTe, cristallisé dans le système monoclinique selon le groupe d'espace C2/m (no 12), et le β-GaTe, cristallisé dans le système hexagonal selon le groupe d'espace P63/mmc (no 194), comme le séléniure de gallium(II) GaSe. Dans la forme α, chaque atome de gallium est lié à un autre atome de gallium et à trois atomes de tellure, ce qui donne une géométrie tétraédrique. Chaque atome de tellure est, quant à lui, lié à trois atomes de gallium dans une géométrie pyramidale trigonale, ce qui donne une structure feuilletée. La forme β est métastable et donne la forme α à haute température[7]. Les autres polymorphes de GaTe sont monocliniques[3],[8],[9].

Le tellurure de gallium(II) peut être obtenu par réaction directe de gallium métallique avec du tellure élémentaire[3] :

Ga + Te ⟶ GaTe.

Il est également possible de le faire croître par MOCVD[10].

Notes et références

  1. 1 2 3 « Fiche du composé Gallium(II) telluride, 99.999% (metals basis)  », sur Alfa Aesar (consulté le ).
  2. ↑ Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
  3. 1 2 3 4 (de) Georg Brauer, en collaboration avec Marianne Baudler, Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie, 3e  éd. révisée, vol. 1, Ferdinand Enke, Stuttgart, 1975, p. 861. (ISBN 3-432-02328-6)
  4. ↑ (en) Jose Javier Fonseca Vega, « Bandgap Engineering of Gallium Telluride » [PDF], sur escholarship.org, UC Berkeley Electronic Theses and Dissertations, (Bibcode 2017PhDT.......106F, consulté le ), p. 1.
  5. ↑ (en) Jose J. Fonseca, Sefaattin Tongay, Mehmet Topsakal, Annabel R. Chew, Alan J. Lin, Changhyun Ko, Alexander V. Luce, Alberto Salleo, Junqiao Wu et Oscar D. Dubon, « Bandgap Restructuring of the Layered Semiconductor Gallium Telluride in Air », Advanced Materials, vol. 28, no 30,‎ , p. 6465-6470 (PMID 27171481, DOI 10.1002/adma.201601151, Bibcode 2016AdM....28.6465F, lire en ligne).
  6. ↑ (en) A. Aydinli, N. M. Gasanly, A. Uka et H. Efeoglu, « Anharmonicity in GaTe layered crystals », Crystal Research & Technology, vol. 37, no 12,‎ , p. 1303-1309 (DOI 10.1002/crat.200290006, lire en ligne).
  7. ↑ (en) Edward D. Palik, Handbook of Optical Constants of Solids, Academic Press, 1998, p. 489. (ISBN 0-12-544423-0)
  8. ↑ (en) V. Grasso, Electronic Structure and Electronic Transitions in Layered Materials, Springer, 1986, p. 232. (ISBN 90-277-2102-5)
  9. ↑ (en) N. N. Kolesnikov, E. B. Borisenko, D. N. Borisenko et A. V. Timonina, « Structure and microstructure of GaTe crystals grown by High-Pressure vertical zone melting », Journal of Crystal Growth, vol. 365,‎ , p. 59-63 (DOI 10.1016/j.jcrysgro.2012.11.038, Bibcode 2013JCrGr.365...59K, lire en ligne).
  10. ↑ (en) Edward G. Gillan et Andrew R. Barron, « Chemical Vapor Deposition of Hexagonal Gallium Selenide and Telluride Films from Cubane Precursors:  Understanding the Envelope of Molecular Control », Chemistry of Materials, vol. 9, no 12,‎ , p. 3037-3048 (DOI 10.1021/cm9703886, lire en ligne).
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